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大量程氣體質量流量控制器 型號:LF2000-D

大量程氣體質量流量控制器 型號:LF2000-D

簡要描述:
大量程氣體質量流量控制器 型號:LF2000-D

技術指標:
滿量程范圍(N2) 300...3000Ln/min
量程比控制器50:1 流量計100:1
精度±1.0%F.S
線性±0.5%F.S
重復性±0.2%F.S

產品時間:2024-10-14

訪問量:1276

廠商性質:生產廠家

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大量程氣體質量流量控制器 型號:LF2000-D

大流量氣體質量流量控制器/流量計為熱式氣體質量流量流量控制器/流量計,利用氣流流過毛細管,改變毛細管溫度分布,造成上下游溫差方法,從而測得氣體的質量流量。其流量精度不受氣體壓力、環(huán)境溫度影響,由于上下游溫差總是實時反映氣體瞬*時流量,所以適用于過程控制中的氣體流量的測量和控制。
本產品可以測量和控制絕大多數干燥、干凈的氣體,可以應用在量程范圍從300Ln/min 到3000Ln/min 之間氣體流量的測量和控制。

大量程氣體質量流量控制器 型號:LF2000-D

技術指標:
滿量程范圍(N2) 300...3000Ln/min
量程比控制器50:1 流量計100:1
精度±1.0%F.S
線性±0.5%F.S
重復性±0.2%F.S
響應時間1S-3S
工作壓差0.3...0.7MPa
蕞大耐壓3MPa
工作環(huán)境溫度5...45℃
泄漏率1×10-8Pa.m3/s
輸入輸出信號RS232/RS485 MODBUS 協議
供電方式24VDC
密封材料丁晴橡膠氟橡膠
接頭尺寸12mm 1/2" 3/4" 法蘭其他
產品應用:
真空鍍膜設備
半導體工藝設備
化學與化工實驗設備
食品科學與工程設備
能*源與環(huán)境保護設備
各種分析儀器設備
表面處理
真空冶金及材料工藝
高校及科研院所實驗室設備

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